南大光电拟投6亿 加码光刻胶产业

每经记者 曾 剑 每经编辑 陈俊杰
　　10月23日下午，光刻胶概念股南大光电（300346，SZ）公告称，拟投资新建光刻胶材料以及配套原材料项目，项目计划总投资6亿元。
　　光刻胶项目是南大光电最大的看点。在此前A股光刻胶概念炒作中，公司股票也受到了资金追捧。此番，南大光电宣布加码光刻胶产业值得关注。
　
　拟投建光刻胶材料配套项目
　　南大光电公告称，公司与宁波经济技术开发区管理委员会签署了《投资协议书》。按照协议，上市公司拟在宁波经济技术开发区投资开发高端集成电路制造用各种先进光刻胶材料，以及配套原材料和底部抗反射层等高纯配套材料，形成规模化生产能力，建立配套完整的国产光刻胶产业链。
　　项目计划总投资6亿元，预计总用地50亩。项目完全达产后，预计实现约10亿元的年销售额，年利税预计约2亿元。
　　资料显示，南大光电主要从事高纯电子材料研发、生产和销售，通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化。目前，公司形成MO源、电子特气、ALD/ CVD前驱体材料等业务板块。
　　《每日经济新闻》记者注意到，2017年，南大光电承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的“193nm光刻胶材料的研发与产业化项目”（以下简称193nm光刻胶项目）。
　　南大光电2019年半年报表示，公司组建了包括高级光刻胶专业人才的独立研发团队，建成1500平方米的研发中心和百升级光刻胶中试生产线。目前，南大光电“193nm光刻胶及配套材料关键技术研究项目”的研发工作已经完成，正在等待验收。同时，公司设立了光刻胶事业部，并成立了全资子公司宁波南大光电材料，推进“193nm光刻胶项目”的落地实施。在2019年半年报中，南大光电预计其将于2019年底在宁波建成一条光刻胶生产线。
　　对于此番投建的项目，南大光电特别在公告中强调，项目与公司正在推进的“193nm光刻胶项目”系两个独立的项目。公司称，投建新项目是为加大对先进光刻胶材料以及配套原材料的建设。
　
　曾因光刻胶概念股身份受捧
　　光刻胶被认为是半导体光刻领域必不可少的关键材料。光刻胶的质量和性能直接决定集成电路的性能、良率。广发证券曾表示，伴随着先进节点所需光刻胶分辨率的提升以及多次图形化技术的应用，光刻胶的成本占比以及市场规模呈现不断提升趋势，根据国际半导体产业协会的数据，2018年光刻胶占晶圆制造材料比例约为5.4%，对应全球半导体光刻胶市场总规模为17.3亿美元，预计2019年市场规模可达17.7亿美元。
　　由于半导体光刻胶技术壁垒很高，供应厂商目前主要集中在美国和日本。目前来看，国内仅有晶瑞股份（300655，SZ）、科华微电子、南大光电、容大感光（300576，SZ）、上海新阳等企业在进行半导体光刻胶生产与研发。
　　《每日经济新闻》记者注意到，今年下半年，日本与韩国发生贸易摩擦，日本对韩国进行出口限制，其中便包含光刻胶材料。在此情况下，A股相关光刻胶概念股也一度受到资金追捧，包括了南大光电。7月中旬，公司股价曾连续涨停，8月15日~9月5日，公司股价在16个交易日里累计上涨64.70%。
　　国海证券曾指出，“193nm光刻胶项目”是南大光电未来最值得期待的看点。在国海证券看来，南大光电研发的ArF光刻胶是目前仅次于EUV光刻胶以外难度最高、制程最先进的光刻胶，也是集成电路22nm、14nm乃至10nm制程的关键。国海证券认为，掌握这项核心技术，不仅具有经济价值，更具有重大战略意义。